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이온주입기

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이온주입기(Ion Implanter)

원리

  • 이온들을 발생시키고 전자석을 이용하여 원하는 이온을 선택한 후에 수 keV ~ 500 keV 로 가속하여 시료 표면에 주입한다.

장비 특성

  • Mass range: 1 - 250 amu
  • Terminal voltage: 10 - 500 kV
    - stability: 100 V
    - ripple: 100 V
  • Ion source: penning gas ion source, model SO-60
  • 주입 가능 에너지: 수 keV ~ 1 MeV
  • 최대 이온주입량: ~ 1017 ptls/cm2
  • 주입 가능 이온: 수소(H+, H2+), 헬륨(He+, He2+), 탄소(C+, C2+), 질소(N+, N2+), 산소(O+, O2+), 알곤(Ar+, AR2+), 제논(Xe+, Xe2+), 베릴륨(Be+) 등 금속이온
  • 주입 가능 면적: 최대 직경 10 cm (4인치 웨이퍼)

장비 사진

이온주입기
이온주입기
(Ion Implanter: HVE 500 kV Air Insulated Accelerator)

분석 담당자

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