다목적 이온주입장치(Multipurpose Ion Implanter)
원리
- 이온들을 발생시키고 전자석을 이용하여 원하는 이온을 선택한 후에 수 keV ~ 500 keV 중 특정 에너지로 특정한 양(dose, ptls/cm2)의 이온을 시료 표면에 주입한다.
응용분야
- 우주부품 내방사선 특성 조사
- 원자로 재료물질 내방사선 시험
- 반도체 레이저 제조 분야
- 고출력 전력반도체 성능개선
- 폴리머 개질, 탄소나노튜브 개질
장비명 및 사진
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이온주입기(Ion Implanter: HVE 500 kV Accelerator)
담당자
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