다목적 이온주입장치

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다목적 이온주입장치(Multipurpose Ion Implanter)

원리

  • 이온들을 발생시키고 전자석을 이용하여 원하는 이온을 선택한 후에 수 keV ~ 500 keV 중 특정 에너지로 특정한 양(dose, ptls/cm2)의 이온을 시료 표면에 주입한다.

응용분야

  • 우주부품 내방사선 특성 조사
  • 원자로 재료물질 내방사선 시험
  • 반도체 레이저 제조 분야
  • 고출력 전력반도체 성능개선
  • 폴리머 개질, 탄소나노튜브 개질

장비명 및 사진

  • 이온주입기(Ion Implanter: HVE 500 kV Accelerator)

담당자

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